MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306

Méret: px
Mutatás kezdődik a ... oldaltól:

Download "MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306"

Átírás

1 Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Technológia: alaplépések, a tanszéki processz

2 Technológia Alapvető technológiai lépések Egyes gyártóberendezések Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

3 Alapvető gyártási lépések Rétegleválasztás vagy növesztés: új anyagréteg jön létre a félvezető (szilícium) szelet teljes felületén Struktúrálás (patterning): a kialakított anyagrétegben mintázatot alakítunk ki fotoreziszt felvitele mintázat ráfényképezése a rezisztre, a reziszt előhívása mintázat átvitele a rezisztről valamilyen marási művelettel (etching) reziszt eltávolítása Külső adalékok mélységi bevitele: ion implantáció (korábban diffúzió) Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

4 Mintázat kialakítása Az eredeti mintázat egy fotomaszkon van üveg hordozón króm mintázat Nagy pontossági igény: 0.03µm / 30cm! 10-7 Látható fény: λ= µm deep UV-re van szükség! Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

5 Monolitikus IC-k Mono lit = egy kő Mélységi struktúra Felületi struktúra (mintázat, pattern) MFS min. csíkszélesség a legfontosabb jellemző: 15 μm 0.18μm vagy még kisebb Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

6 Mélységi struktúra kialakítása Rétegleválasztás / rétegnövesztés: epitaxiális réteg növesztése (a meglévő Si egykristállyal egyező szerkezetű, esetleg másképp adalékolt réteg) ma pl.: IBE ion-beam epitaxy: atomi rétegek leválasztásának a lehetősége / kvantumos hatások lehetősége az eszközökben oxidáció (SiO 2 leválasztás vagy növesztés) vákuumpárologtatás (evaporation) pl. Alfémezés Egyéb rétegleválasztási módszerek katódporlasztás (sputtering) CVD: chemical vapor deposition kémiai gőzfázisú leválasztás, stb Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

7 Epitaxiális rétegnövesztés A klasszikus epitaxia: egykristályos réteg hozzánövesztése a hordozóhoz gőz vagy folyadék fázisból Si szeletek ~1200 o C SiCl + H Si 4HCl A növesztett réteg kristályszerkezet u.a. mint szubsztráté Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

8 Epitaxiális rétegnövesztés Molekula sugaras epitaxia: ún. kvantum eszközök készülnek ilyennel MBE: molecular beam epitaxy Oxidnövesztés Termikus oxidálás ( o C) Kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) d SiO ~ Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET t

9 Epitaxiális rétegnövesztés ASiCl 4 /H 2 arányától függően egkristály növesztése polikristályos Si növesztése: poliszilícium lehet még amorf szilíciumot is létrehozni maratás Adalékolni is lehet! Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

10 Vákuumpárologtatás Szabad úthossz > edény mérte Fémezés: ~ µm Ma: elektronsugaras forrás Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

11 Katódporlasztás Kis nyomáson gázkisülés (pl. Ar atmoszférában) hordozza a leválasztandó anyagot Nagyfrekvenciás meghajtással szigeteleő anyagok is porlaszthatók Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

12 Mélységi struktúra kialakítása Adalék atomok bevitele a Si-egykristályba tulajdonságainak módosítása végett Egyszerű 2D nézet 3D gyémántrács V. oszlopbeli adalék (5 v.é): extra elektron DONOR n-típusú Si III. oszlopbeli adalék (3 v.é.): elektron hiány ACCEPTOR p-típusú Si Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

13 Az adalékolás szelektivitása? A SiO 2 kitűnően maszkolja az adalék atomokat (ellenálló, összefüggő réteg GaAs-nél ilyen nincs) Ahol ablak van benne, ott behatolnak az adalékok Diffúzió mély profil Ion implantáció sekély profil ASiO 2 mintázat maszkolja Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

14 Mélységi struktúra kialakítása Adalékok bevitele diffúzióval Az adalék atomok diffundálnak az igen nagy hőmérsékletű Si-ban Mozgató az atomok energiájának statisztikus eloszlása: intersticiális vándorlás: helycsere a Si atomokkal hibahelyeken vándorlás Milyen mélységi eloszlás alakul ki? Fick törvények: J = D c x D = D(T )! c t = J x c t = D 2 c 2 x Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

15 Diffúzió Egy fontos megoldás: c( x,0) = M 0 δ ( x) M 0 c( x, t) = exp 4 4πDt ( 2 x / Dt) Gyakorlati végrehajtás 2 lépésben elődiffúzió behajtás / drive-in (pl o C, 3 óra) (pl o C, 1 óra) Ma: ion implantáció után végső profil kialakítása Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

16 Diffúzió A diffúziós kályha (furnace) kvarc csónak ASiO 2 mintázat maszkolja Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

17 Ipari méretű diffúziós kályha Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

18 Ion implantáció Tömegspektrométerrel egy ionsugárból kiválasztott ionokat lövünk a Si szeletre mint target-re Az adalékok kezdeti eloszlása az ionsugár energiájától és dózisától függ Az implantációt hőkezelés követi a szilícium egykristály szerkezetének helyreállítása az adalékok behajtása: végső adalékeloszlás (adalék profil) kialakítása ~100 kv nagyságrendű feszültség Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

19 Ion implantáció Átlagos behatolási mélység, körülötte véletlen eloszlás Gauss profil r = mv qb ASiO 2 mintázat maszkolja Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

20 Ion implantáció Alacsony hőmérsékletű lépés. Előny: korábbi adalékprofilokat nem nagyon rontjuk el ASiO 2 mintázat maszkolja Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

21 A felületi struktúra kialakítása Fotolitográfiával ez minden mintázatkialakítás (patterning) első lépése Az oxidlépcsők problémája: step coverage Ablaknyitás az oxidon - fotolitográfiával Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

22 Struktúrálás: fotolitográfia Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

23 Az ablaknyitás lépései Fémezés mintázatához teli-fémezés fotoreziszt fényképezés, előhívás fölösleges fém kimaratása reziszt eltávolítása Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

24 Fotolitográfia Sárga fényű helyiségben a reziszt UV-re érzékeny, sárgára nem EET, V2 306 IC gyár valahol a világban EET, V2 306 Monolit IC Labor, Mikroelektronika szakirány az EET-n Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

25 Egy egyszerű pmos technológia Technológiai lépések az EET Félvezető Laboratóriumában (tiszta szobájában) Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

26 P-csatornás monolit IC készítése Szelettisztítás Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

27 P-csatornás monolit IC készítése Vastagoxid-növesztés (ún. field oxide) Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

28 P-csatornás monolit IC készítése Fotolitográfia: reziszt cseppentés, felpörgetés Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

29 P-csatornás monolit IC készítése Fotolitográfia: maszkillesztés Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

30 P-csatornás monolit IC készítése Fotolitográfia: megvilágítás Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

31 P-csatornás monolit IC készítése Fotolitográfia: előhívás Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

32 P-csatornás monolit IC készítése Mintázat átmásolása: az oxid kimarásával Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

33 P-csatornás monolit IC készítése Fotolitográfia: oxidmarás, lakkeltávolítás Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

34 P-csatornás monolit IC készítése Bórdiffúzió szilárd fázisból, elődiffúzió Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

35 P-csatornás monolit IC készítése Bórüveg eltávolítása Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

36 P-csatornás monolit IC készítése Bórdiffúzió második lépése: behajtás (oxigénben) Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

37 P-csatornás monolit IC készítése Fotolitográfia: Alumínium Vékonyoxid-növesztés vákuumgőzölése lakk ablaknyitás eltávolítása a gate a gate-oxid fémezés számára számára céljára Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

38 P-csatornás monolit IC készítése Fotolitográfia: Kész struktúralakk fém vezetékhálózat eltávolítása kialakítása Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

39 P-csatornás monolit IC készítése Darabolás, eutektikus kötés, termokompresszió Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

40 P-csatornás monolit IC készítése napelem készítése Akit érdekel, érdeklődhet Tímárné Horváth Veronika c. docensnél vagy Juhász László adjunktusnál Lehetőségek: Monolit IC készítése Napelem készítés választható tárgyak, valamint: TDK (érdeklődni: Bognár György TDK felelősnél) Önálló labor (érdeklődni: Bognár Györgynél, Tímár tanár nőnél) Szakdolgozat (érdeklődni: Kollár Ernőnél) Mikroelektronika - Technológiai áttekintés Poppe András, Székely Vladimír & Juhász László, BME-EET

Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke. http://www.eet.bme.hu

Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke. http://www.eet.bme.hu Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Technológia: alaplépések, a tanszéki processz http://www.eet.bme.hu/~poppe/miel/hu/02-pmos-technologia.ppt http://www.eet.bme.hu

Részletesebben

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Bevezetés http://www.eet.bme.hu/~poppe/miel/hu/01-bevez.ppt http://www.eet.bme.hu Alapfogalmak IC-k egy felületszerelt panelon

Részletesebben

$% % & #&' ( ,,-."&#& /0, 1!! Félvezetk &2/3 4#+ 5 &675!! "# " $%&"" Az 1. IC: Jack Kilby # + 8 % 9/99: "#+ % ;! %% % 8/</< 4: % !

$% % & #&' ( ,,-.&#& /0, 1!! Félvezetk &2/3 4#+ 5 &675!! #  $%& Az 1. IC: Jack Kilby # + 8 % 9/99: #+ % ;! %% % 8/</< 4: % ! Félvezetk $ & &' ( )*+,,-.&& /0, 1 &2/3 4+ 56 5 &675 $& Az 1. I: Jack Kilby 1958 4 + 8 9/99: + ; 8/

Részletesebben

Félvezetők. Félvezető alapanyagok. Egykristály húzás 15/04/2015. Tiszta alapanyag előállítása. Nyersanyag: kvarchomok: SiO 2 Redukció szénnel SiO 2

Félvezetők. Félvezető alapanyagok. Egykristály húzás 15/04/2015. Tiszta alapanyag előállítása. Nyersanyag: kvarchomok: SiO 2 Redukció szénnel SiO 2 Félvezetők Az 1. IC: Jack Kilby 1958 Tiszta alapanyag előállítása Kohászati minőségű Si Félvezető tisztaságú Si Egykristály húzás Szelet készítés Elemgyártás Fotolitográfia, maszkolás, maratás, adalékolás,

Részletesebben

FÉLVEZETŐ ALAPÚ ESZKÖZÖK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA

FÉLVEZETŐ ALAPÚ ESZKÖZÖK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA 2 FÉLVEZETŐ ALAPÚ ESZKÖZÖK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA 2-04 RÉTEGLEVÁLASZTÁSI, ÉS ADALÉKOLÁSI TECHNOLÓGIÁK ELEKTRONIKAI TECHNOLÓGIA ÉS ANYAGISMERET VIETAB00 BUDAPEST UNIVERSITY OF TECHNOLOGY AND ECONOMICS DEPARTMENT

Részletesebben

FÉLVEZETŐ ALAPÚ ESZKÖZÖK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA

FÉLVEZETŐ ALAPÚ ESZKÖZÖK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA 2 FÉLVEZETŐ ALAPÚ ESZKÖZÖK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA 2-05 MINTÁZAT- ÉS SZERKEZET-KIALAKÍTÁS FÉLVEZETŐ SZELETEN ELEKTRONIKAI TECHNOLÓGIA ÉS ANYAGISMERET VIETAB00 BUDAPEST UNIVERSITY OF TECHNOLOGY AND ECONOMICS

Részletesebben

09/05/2016. Félvezetők. Az 1. IC: Jack Kilby 1958

09/05/2016. Félvezetők. Az 1. IC: Jack Kilby 1958 Félvezetők Az 1. IC: Jack Kilby 1958 1 Tiszta alapanyag előállítása Kohászati minőségű Si Félvezető tisztaságú Si Egykristály húzás Szelet készítés Elemgyártás Fotolitográfia, maszkolás, maratás, adalékolás,

Részletesebben

Elektronikai technológia vizsgatematika 2016 Táv, Levelező

Elektronikai technológia vizsgatematika 2016 Táv, Levelező Elektronikai technológia vizsgatematika 2016 Táv, Levelező Témák Kötelező Ajánlott 1. Nyomtatott Huzalozású Lemezek technológiája A NYHL funkciói, előnyei, alaptípusok A kétoldalas NYHL gyártásának menete

Részletesebben

Elektronikai technológia vizsgatematika 2015 Nappali, Táv, Levelező

Elektronikai technológia vizsgatematika 2015 Nappali, Táv, Levelező Elektronikai technológia vizsgatematika 2015 Nappali, Táv, Levelező Témák Kötelező Ajánlott 1. Nyomtatott Huzalozású Lemezek technológiája A NYHL funkciói, előnyei, alaptípusok A NYHL anyagai; hordozók,

Részletesebben

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Térvezérelt tranzisztorok II. A MOSFET-ek http://www.eet.bme.hu/~poppe/miel/hu/12-mosfet1.ppt http://www.eet.bme.hu Ismétlés: Működési

Részletesebben

Az integrált áramkörök technológiájának gyakorlati oktatása a BME Elektronikus Eszközök Tanszékén

Az integrált áramkörök technológiájának gyakorlati oktatása a BME Elektronikus Eszközök Tanszékén Az integrált áramkörök technológiájának gyakorlati oktatása a BME Elektronikus Eszközök Tanszékén TÍMÁRNÉ HORVÁTH VERONIKA - HARSÁNYI JÓZSEF-DR. MIZSEI JÁNOS BME Elektronikus Eszközök Tanszéke ÖSSZEFOGLALÁS

Részletesebben

Integrált áramkörök/1. Informatika-elekronika előadás 10/20/2007

Integrált áramkörök/1. Informatika-elekronika előadás 10/20/2007 Integrált áramkörök/1 Informatika-elekronika előadás 10/20/2007 Mai témák Fejlődési tendenciák, roadmap-ek VLSI alapfogalmak A félvezető gyártás alapműveletei A MOS IC gyártás lépései 10/20/2007 2/48 Integrált

Részletesebben

Felületmódosító technológiák

Felületmódosító technológiák ANYAGTUDOMÁNY ÉS TECHNOLÓGIA TANSZÉK Biokompatibilis anyagok 2011. Felületm letmódosító eljárások Dr. Mészáros István 1 Felületmódosító technológiák A leggyakrabban változtatott tulajdonságok a felület

Részletesebben

MEMS, szenzorok. Tóth Tünde Anyagtudomány MSc

MEMS, szenzorok. Tóth Tünde Anyagtudomány MSc MEMS, szenzorok Tóth Tünde Anyagtudomány MSc 2016. 05. 04. 1 Előadás vázlat MEMS Története Előállítása Szenzorok Nyomásmérők Gyorsulásmérők Szögsebességmérők Áramlásmérők Hőmérsékletmérők 2 Mi is az a

Részletesebben

MEMS TECHNOLÓGIÁK MEMS-EK ALKALMAZÁSI PÉLDÁI

MEMS TECHNOLÓGIÁK MEMS-EK ALKALMAZÁSI PÉLDÁI MEMS TECHNOLÓGIÁK MEMS-EK ALKALMAZÁSI PÉLDÁI Dr. Bonyár Attila, adjunktus bonyar@ett.bme.hu Budapest, 2015.10.13. BUDAPEST UNIVERSITY OF TECHNOLOGY AND ECONOMICS DEPARTMENT OF ELECTRONICS TECHNOLOGY Tematika

Részletesebben

SOIC Small outline IC. QFP Quad Flat Pack. PLCC Plastic Leaded Chip Carrier. QFN Quad Flat No-Lead

SOIC Small outline IC. QFP Quad Flat Pack. PLCC Plastic Leaded Chip Carrier. QFN Quad Flat No-Lead 1. Csoportosítsa az elektronikus alkatrészeket az alábbi szempontok szerint! Funkció: Aktív, passzív Szerelhetőség: furatszerelt, felületszerelt, tokozatlan chip Funkciók száma szerint: - diszkrét alkatrészek

Részletesebben

VÉKONYRÉTEGEK ÉS ELŐÁLLÍTÁSUK

VÉKONYRÉTEGEK ÉS ELŐÁLLÍTÁSUK 3 VÉKONYRÉTEGEK ÉS ELŐÁLLÍTÁSUK 3-01 VÉKONYRÉTEG TECHNOLÓGIA ELEKTRONIKAI TECHNOLÓGIA ÉS ANYAGISMERET VIETAB00 BUDAPEST UNIVERSITY OF TECHNOLOGY AND ECONOMICS DEPARTMENT OF ELECTRONICS TECHNOLOGY TARTALOM

Részletesebben

ZH November 27.-én 8:15-től

ZH November 27.-én 8:15-től ZH-2 2017 November 27.-én 8:15-től Érzékelési elvek Érzékelési módszerek Mikrotechnológia http://www.mogi.bme.hu/tamop/mikromechanika/math-index.html 1 Mikrotechnológia alapjai Mikrotechnológia = szerszámkészlet

Részletesebben

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Budaesti Műszaki és Gazdaságtudomáyi Egyetem Elektroikus Eszközök Taszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Félvezető fizikai alaok htt://www.eet.bme.hu/~oe/miel/hu/03-felvez-fiz.tx htt://www.eet.bme.hu Budaesti

Részletesebben

Diffúzió. Diffúzió sebessége: gáz > folyadék > szilárd (kötőerő)

Diffúzió. Diffúzió sebessége: gáz > folyadék > szilárd (kötőerő) Diffúzió Diffúzió - traszportfolyamat (fonon, elektron, atom, ion, hőmennyiség...) Elektromos vezetés (Ohm) töltés áram elektr. potenciál grad. Hővezetés (Fourier) energia áram hőmérséklet különbség Kémiai

Részletesebben

FÉLVEZETŐ ESZKÖZÖK I. Elektrotechnika 4. előadás

FÉLVEZETŐ ESZKÖZÖK I. Elektrotechnika 4. előadás FÉLVEZETŐ ESZKÖZÖK I. Elektrotechnika 4. előadás FÉLVEZETŐ ESZKÖZÖK A leggyakrabban használt félvezető anyagok a germánium (Ge), és a szilícium (Si). Félvezető tulajdonsággal rendelkező elemek: szén (C),

Részletesebben

Diffúzió. Diffúzió. Diffúzió. Különféle anyagi részecskék anyagon belüli helyváltoztatása Az anyag lehet gáznemű, folyékony vagy szilárd

Diffúzió. Diffúzió. Diffúzió. Különféle anyagi részecskék anyagon belüli helyváltoztatása Az anyag lehet gáznemű, folyékony vagy szilárd Anyagszerkezettan és anyagvizsgálat 5/6 Diffúzió Dr. Szabó Péter János szpj@eik.bme.hu Diffúzió Különféle anyagi részecskék anyagon belüli helyváltoztatása Az anyag lehet gáznemű, folyékony vagy szilárd

Részletesebben

FÉLVEZETŐ ALAPÚ ESZKÖZÖK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA

FÉLVEZETŐ ALAPÚ ESZKÖZÖK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA 2 FÉLVEZETŐ ALAPÚ ESZKÖZÖK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA 2-03 FÉLVEZETŐ SZELET ELŐÁLLÍTÁSA (ALAPANYAGTÓL A SZELETIG) ELEKTRONIKAI TECHNOLÓGIA ÉS ANYAGISMERET VIETAB00 BUDAPEST UNIVERSITY OF TECHNOLOGY AND ECONOMICS

Részletesebben

Betekintés a napelemek világába

Betekintés a napelemek világába Betekintés a napelemek világába (mőködés, fajták, alkalmazások) Nemcsics Ákos Óbudai Egyetem Tartalom Bevezetés energetikai problémák napenergia hasznosítás módjai Napelemrıl nem középiskolás fokon napelem

Részletesebben

Vékonyrétegek - általános követelmények

Vékonyrétegek - általános követelmények Vékonyrétegek - általános követelmények egyenletes vastagság a teljes szubsztráton azonos összetétel azonos szerkezet (amorf, polikristályos, epitaxiális) azonos fizikai és kémiai tulajdonságok tömörség

Részletesebben

Integrált áramkörök/2. Rencz Márta Elektronikus Eszközök Tanszék

Integrált áramkörök/2. Rencz Márta Elektronikus Eszközök Tanszék Integrált áramkörök/2 Rencz Márta Elektronikus Eszközök Tanszék Mai témák MOS áramkörök alkatrészkészlete Bipoláris áramkörök alkatrészkészlete 11/2/2007 2/27 MOS áramkörök alkatrészkészlete Tranzisztorok

Részletesebben

Anyagismeret 2016/17. Diffúzió. Dr. Mészáros István Diffúzió

Anyagismeret 2016/17. Diffúzió. Dr. Mészáros István Diffúzió Anyagismeret 6/7 Diffúzió Dr. Mészáros István meszaros@eik.bme.hu Diffúzió Különféle anyagi részecskék anyagon belüli helyváltoztatása Az anyag lehet gáznemű, folyékony vagy szilárd Diffúzió Diffúzió -

Részletesebben

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 A MOS inverterek http://www.eet.bme.hu/~poppe/miel/hu/13-mosfet2.ppt http://www.eet.bme.hu Vizsgált absztrakciós szint RENDSZER

Részletesebben

1. Az elektronikai termékek és technológiák rendszere. A diszkrét alkatrészek fajtái.

1. Az elektronikai termékek és technológiák rendszere. A diszkrét alkatrészek fajtái. 1. Az elektronikai termékek és technológiák rendszere. A diszkrét alkatrészek fajtái. A technológia az ismereteknek az az ága, amely tudományos és ipari módszerekre és azoknak az iparban való gyakorlati

Részletesebben

Hibrid Integrált k, HIC

Hibrid Integrált k, HIC Hibrid Integrált Áramkörök, k, HIC Az alábbi bemutató egyes ábráit a Dr. Illyefalvi Vitéz Zsolt Dr. Ripka Gábor Dr. Harsányi Gábor: Elektronikai technológia, ill. Dr Ripka Gábor: Hordozók, alkatrészek

Részletesebben

MEMS eszköz: a tranzisztor elektromechanikus analógja

MEMS eszköz: a tranzisztor elektromechanikus analógja 1 MTA TTK Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet MEMS Laboratórium 1121 Budapest, Konkoly - Thege Miklós út 29-33 MEMS Micro Electro Mechanical Systems Eljárások és eszközök Csikósné Dr Pap Andrea Edit

Részletesebben

5. VÉKONYRÉTEG TECHNOLÓGIÁK

5. VÉKONYRÉTEG TECHNOLÓGIÁK 5. VÉKONYRÉTEG TECHNOLÓGIÁK Definíció: vékonyréteg az anyag olyan megjelenési formája, melynél valamilyen lényeges fizikai sajátság tekintetében az egyik térbeli irány kitüntetett szerepet játszik [1].

Részletesebben

Mikroelektronika Laboratórium

Mikroelektronika Laboratórium Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Mikroelektronika Laboratórium Tájékoztató http://www.eet.bme.hu/~poppe/miel/hu/00-labtaj.ppt http://www.eet.bme.hu Célok VLSI laborjainkban a legújabb és

Részletesebben

NYOMTATOTT HUZALOZÁSÚ LAPOK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA

NYOMTATOTT HUZALOZÁSÚ LAPOK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA NYOMTATOTT HUZALOZÁSÚ LAPOK GYÁRTÁSTECHNOLÓGIÁJA Az elektronikai tervező általában nem gyárt nyomtatott lapokat, mégis kell, hogy legyen némi rálátása a gyártástechnológiára, hogy terve kivitelezhető legyen.

Részletesebben

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem MKROELEKTRONKA, VEEA306 A bipoláris tranzisztor. http://www.eet.bme.hu/~poppe/miel/hu/08-bipol3.ppt http://www.eet.bme.hu Az ideális tranzisztor karakterisztikái

Részletesebben

Elektronikai Technológia és Anyagismeret mintakérdések

Elektronikai Technológia és Anyagismeret mintakérdések Elektronikai Technológia és Anyagismeret mintakérdések 1-01 A FURAT- ÉS FELÜLETSZERELHETŐ ALKATRÉSZEK MEGJELENÉSI FORMÁI ÉS TÍPUSAI Mutassa be a furatszerelt alkatrészeket rajzokkal és leírással! Furatszerelt

Részletesebben

Többrétegű struktúrák technológiai modellezése

Többrétegű struktúrák technológiai modellezése Többrétegű struktúrák technológiai modellezése DR TARNAY K Á L M Á N - DR MASSZ FERENC DR DROZDY GYŐZŐ* BME Elektronikus Eszközök Tanszéke *MTA Központi Fizikai Kutató ntézet Mikroelektronikai Kutató ntézete

Részletesebben

G04 előadás Napelem technológiák és jellemzőik. Szent István Egyetem Gödöllő

G04 előadás Napelem technológiák és jellemzőik. Szent István Egyetem Gödöllő G04 előadás Napelem technológiák és jellemzőik Kristályos szilícium napelem keresztmetszete negatív elektróda n-típusú szennyezés pozitív elektróda p-n határfelület p-típusú szennyezés Napelem karakterisztika

Részletesebben

Bevezetés a modern fizika fejezeteibe. 4. (c) Kvantummechanika. Utolsó módosítás: november 25. Dr. Márkus Ferenc BME Fizika Tanszék

Bevezetés a modern fizika fejezeteibe. 4. (c) Kvantummechanika. Utolsó módosítás: november 25. Dr. Márkus Ferenc BME Fizika Tanszék Bevezetés a modern fizika fejezeteibe 4. (c) Kvantummechanika Utolsó módosítás: 2015. november 25. 1 Az impulzusmomentum (1) A mechanikában az impulzusmomentumot a hely és impulzus vektoriális szorzataként

Részletesebben

Fotoindukált változások vizsgálata amorf félvezető kalkogenid arany nanorészecskéket tartalmazó rendszerekben

Fotoindukált változások vizsgálata amorf félvezető kalkogenid arany nanorészecskéket tartalmazó rendszerekben Az Eötvös Loránd Fizikai Társulat Anyagtudományi és Diffrakciós Szakcsoportjának Őszi Iskolája 2011.10.05 Visegrád Fotoindukált változások vizsgálata amorf félvezető kalkogenid arany nanorészecskéket tartalmazó

Részletesebben

Szepes László ELTE Kémiai Intézet

Szepes László ELTE Kémiai Intézet Szepes László ELTE Kémiai Intézet Szárnyaló molekulák felületi rétegek ALKÍMIA MA c. előadássorozat 2013. február 14. Az előadás témája és vázlata Téma: felületi gőzfázisú rétegleválasztás (Chemical Vapour

Részletesebben

MEMS technológiák, eljárások

MEMS technológiák, eljárások ÓBUDAI EGYETEM KANDÓ KÁLMÁN VILLAMOSMÉRNÖKI KAR TÁVOKTATÁS TAGOZAT MEMS technológiák, eljárások Brindzik József 2010.12.12. A MEMS-ekről általában. A nanotechnológia indulását az integrált áramkörök fejlődése

Részletesebben

2.) CVD rétegleválasztás alapvonásai, főbb felhasználási területei

2.) CVD rétegleválasztás alapvonásai, főbb felhasználási területei 1.) Si alapanyag előállítás lépései, egy lépés részletes leírása részletesen Szilícium nagy mennyiségben van a földön. A kvarc homokot (SiO2) megtisztítjuk desztillálással, redukcióval, kémiai leválasztással.

Részletesebben

OTDK ápr Grafén nanoszalagok. Témavezető: : Dr. Csonka Szabolcs BME TTK Fizika Tanszék MTA MFA

OTDK ápr Grafén nanoszalagok. Témavezető: : Dr. Csonka Szabolcs BME TTK Fizika Tanszék MTA MFA OTDK 2011. ápr. 27-29. 29. Tóvári Endre Grafén nanoszalagok előáll llítása Témavezető: : Dr. Csonka Szabolcs BME TTK Fizika Tanszék MTA MFA Tóvári Endre: Grafén nanoszalagok előállítása OTDK 2011 2 Tartalom

Részletesebben

Újabb eredmények a grafén kutatásában

Újabb eredmények a grafén kutatásában Újabb eredmények a grafén kutatásában Magda Gábor Zsolt Atomoktól a csillagokig 2014. március 13. Új anyag, új kor A kőkortól kezdve egy új anyag felfedezésekor új lehetőségek nyíltak meg, amik akár teljesen

Részletesebben

Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem. Elektronikus Eszközök Tanszéke. A modern CMOS. eet.bme.hu

Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem. Elektronikus Eszközök Tanszéke. A modern CMOS. eet.bme.hu Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke A modern CMOS A MOS tranzisztor Ezt tanultuk Ez pedig a valóság, 2013 14nm. A MOS tranzisztor skálázása ugyanazt, kicsiben

Részletesebben

Folyadékok. Fogorvosi anyagtan fizikai alapjai 2. Általános anyagszerkezeti ismeretek Folyadékok, szilárd anyagok, folyadékkristályok

Folyadékok. Fogorvosi anyagtan fizikai alapjai 2. Általános anyagszerkezeti ismeretek Folyadékok, szilárd anyagok, folyadékkristályok Folyadékok víz Fogorvosi anyagtan fizikai alapjai 2. Általános anyagszerkezeti ismeretek Folyadékok, szilárd anyagok, folyadékkristályok 1 saját térfogat nincs saját alak/folyékony nincsenek belső nyíróerők

Részletesebben

SZENZOROK ÉS MIKROÁRAMKÖRÖK

SZENZOROK ÉS MIKROÁRAMKÖRÖK SZENZOROK ÉS MIKROÁRAMKÖRÖK 2. ELŐADÁS: ÉRZÉKELŐK TECHNOLÓGIÁI: SPECIÁLIS ANYAGTÍPUSOK ÉS TECHNOLÓGIÁK 2014/2015 tanév 2. félév 1 2. ELŐADÁS: TECHNOLÓGIÁK ÉS ANYAGOK: ÁTTEKINTÉS 1. Monolit félvezető technológiák

Részletesebben

A technológiában a fotolitográfiás lépés ismétlődik Fabrication of pmos (poly gate) transistor 4 level mask set. Source Gate Drain. Process sequence 1

A technológiában a fotolitográfiás lépés ismétlődik Fabrication of pmos (poly gate) transistor 4 level mask set. Source Gate Drain. Process sequence 1 1 2 Fotólitográfia Egy sok lépésből álló művelet, amely során először lakk ábrák kialakítása történik fény hatására egy fényérzékeny bevonatban. Ezután ezt a mintázatot visszük át különböző vékonyrétegekbe.

Részletesebben

Diffúzió 2003 március 28

Diffúzió 2003 március 28 Diffúzió 3 március 8 Diffúzió: különféle anyagi részecskék (szilárd, folyékony, gáznemű) anyagon belüli helyváltozása. Szilárd anyagban való mozgás Öndiffúzió: a rácsot felépítő saját atomok energiaszint-különbség

Részletesebben

Integrált áramköri technológia

Integrált áramköri technológia BUDAPESTI MŐSZAKI ÉS GAZDASÁGTUDOMÁNYI EGYETEM Villamosmérnöki és Informatikai Kar Elektronikus Eszközök Tanszéke Dr. Mizsei János, Timárné Horváth Veronika Integrált áramköri technológia Segédlet a Mikroelektronika

Részletesebben

Bevezetés az analóg és digitális elektronikába. V. Félvezető diódák

Bevezetés az analóg és digitális elektronikába. V. Félvezető diódák Bevezetés az analóg és digitális elektronikába V. Félvezető diódák Félvezető dióda Félvezetőknek nevezzük azokat az anyagokat, amelyek fajlagos ellenállása a vezetők és a szigetelők közé esik. (Si, Ge)

Részletesebben

MIKRO- ÉS NANOTECHNIKA I

MIKRO- ÉS NANOTECHNIKA I MIKRO- ÉS NANOTECHNIKA I Dr. Pődör Bálint Óbudai Egyetem, KVK Mikroelektronikai és Technológia Intézet 6. ELŐADÁS 2009/2010 tanév 1. félév 1 ÁLTALÁNOS BEVEZETÉS A mikro- és nanotechnika c. tárgy megkísérli

Részletesebben

A napenergia alapjai

A napenergia alapjai A napenergia alapjai Magyarország energia mérlege sötét Ahonnan származik Forrás: Kardos labor 3 A légkör felső határára és a Föld felszínére érkező sugárzás spektruma Nem csak az a spektrum tud energiát

Részletesebben

SZENZOROK ÉS MIKROÁRAMKÖRÖK

SZENZOROK ÉS MIKROÁRAMKÖRÖK SZENZOROK ÉS MIKROÁRAMKÖRÖK 2. ELŐADÁS: ÉRZÉKELŐK TECHNOLÓGIÁI: SPECIÁLIS ANYAGTÍPUSOK ÉS TECHNOLÓGIÁK 2015/2016 tanév 2. félév 1 TECHNOLÓGIÁK ÉS ANYAGOK: ÁTTEKINTÉS 1. Monolit félvezető technológiák 2.

Részletesebben

Bevezetés a lézeres anyagmegmunkálásba

Bevezetés a lézeres anyagmegmunkálásba Bevezetés a lézeres anyagmegmunkálásba FBN332E-1 Dr. Geretovszky Zsolt 2010. október 6. Anyagcsaládok Fémek Kerámiák, üvegek Műanyagok Kompozitok A családok közti különbségek tárgyalhatóak: atomi szinten

Részletesebben

Mikromechanikai technológiák

Mikromechanikai technológiák 1 Mikromechanikai technológiák Fürjes Péter E-mail:, www.mems.hu 2 Mond valamit? MEMS / mikromechanika litográfia pozitív / negatív reziszt lift-off CVD / ALD izotróp / anizotróp marás RIE / DRIE 3 Szilícium

Részletesebben

Kerámia, üveg és fém-kerámia implantátumok

Kerámia, üveg és fém-kerámia implantátumok Kerámia, üveg és fém-kerámia implantátumok Bagi István BME MTAT Bevezetés Kerámiák csoportosítása teljesen tömör bioinert porózus bioinert teljesen tömör bioaktív oldódó Definíciók Bioinert a szomszédos

Részletesebben

MEMS. Micro Electro Mechanical Systems Eljárások és eszközök. MEMS alkalmazási területei - szemelvények. MEMS technológiák, eljárások - Oxidáció

MEMS. Micro Electro Mechanical Systems Eljárások és eszközök. MEMS alkalmazási területei - szemelvények. MEMS technológiák, eljárások - Oxidáció MTA Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Kutatóintézet MEMS Laboratórium 1121 Budapest, Konkoly - Thege Miklós út 29-33 MEMS technológia kialakulása MEMS Micro Electro Mechanical Systems Eljárások és eszközök

Részletesebben

Ipari vizek tisztítási lehetőségei rövid összefoglalás. Székely Edit BME Kémiai és Környezeti Folyamatmérnöki Tanszék

Ipari vizek tisztítási lehetőségei rövid összefoglalás. Székely Edit BME Kémiai és Környezeti Folyamatmérnöki Tanszék Ipari vizek tisztítási lehetőségei rövid összefoglalás Székely Edit BME Kémiai és Környezeti Folyamatmérnöki Tanszék Kezelés Fizikai, fizikai-kémiai Biológiai Kémiai Szennyezők típusai Módszerek Előnyök

Részletesebben

Mikromechanikai technológiák

Mikromechanikai technológiák 1 Mikromechanikai technológiák Fürjes Péter E-mail:, www.mems.hu 2 Ismétlés MEMS / mikromechanika litográfia pozitív / negatív reziszt lift-off CVD / ALD izotróp / anizotróp marás RIE / DRIE 3 TECHNOLÓGIA:

Részletesebben

Analitikai szenzorok második rész

Analitikai szenzorok második rész 2010.09.28. Analitikai szenzorok második rész Galbács Gábor A szilícium fizikai tulajdonságai A szenzorok egy igen jelentős része ma a mikrofabrikáció eszközeivel, közvetlenül a mikroelektronikai félvezető

Részletesebben

Folyadékok. Fogorvosi anyagtan fizikai alapjai 2. Általános anyagszerkezeti ismeretek Folyadékok, szilárd anyagok, folyadékkristályok.

Folyadékok. Fogorvosi anyagtan fizikai alapjai 2. Általános anyagszerkezeti ismeretek Folyadékok, szilárd anyagok, folyadékkristályok. Folyadékok folyékony nincs saját alakja szilárd van saját alakja (deformálás után úgy marad, nem (deformálás után visszaalakul, mert ébrednek benne visszatérítő nyíróerők) visszatérítő nyíróerők léptek

Részletesebben

Fényérzékeny amorf nanokompozitok: technológia és alkalmazásuk a fotonikában. Csarnovics István

Fényérzékeny amorf nanokompozitok: technológia és alkalmazásuk a fotonikában. Csarnovics István Új irányok és eredményak A mikro- és nanotechnológiák területén 2013.05.15. Budapest Fényérzékeny amorf nanokompozitok: technológia és alkalmazásuk a fotonikában Csarnovics István Debreceni Egyetem, Fizika

Részletesebben

Transzportfolyamatok. Alapfogalmak. Lokális mérlegegyenlet. Transzportfolyamatok 15/11/2015

Transzportfolyamatok. Alapfogalmak. Lokális mérlegegyenlet. Transzportfolyamatok 15/11/2015 Alapfogalmak Transzportfolyamatok Diffúzió, Hővezetés Viszkozitás Önként végbemenő folyamat: Egyensúlyi állapot irányába Intenzív paraméterek kiegyenlítődése (p, T, µ) Extenzív paraméterek áramlása (V,

Részletesebben

A napelemek fizikai alapjai

A napelemek fizikai alapjai A napelemek fizikai alapjai Dr. Rácz Ervin Ph.D. egyetemi docens intézetigazgató-helyettes kari oktatási igazgató Óbudai Egyetem, Villamosenergetikai Intézet Budapest 1034, Bécsi u. 94. racz.ervin@kvk.uni-obuda.hu

Részletesebben

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 MOS áramkörök: CMOS áramkörök, konstrukciós kérdések http://www.eet.bme.hu/~poppe/miel/hu/14-cmos.ppt http://www.eet.bme.hu Vizsgált

Részletesebben

Hornos Tamás. Atomfizika Tanszék. Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem (2008)

Hornos Tamás. Atomfizika Tanszék. Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem (2008) Theoretical study of defects in silicon carbide and at the silicon dioxide interface Sziĺıciumkarbidbeli és a sziĺıciumkarbid-sziĺıciumdioxid határfelületi hibák elméleti vizsgálata Ph.D. értekezés Hornos

Részletesebben

Fókuszált ionsugaras megmunkálás

Fókuszált ionsugaras megmunkálás 1 FEI Quanta 3D SEM/FIB Fókuszált ionsugaras megmunkálás Ratter Kitti 2011. január 19-21. 2 FIB = Focused Ion Beam (Fókuszált ionnyaláb) Miből áll egy SEM/FIB berendezés? elektron oszlop ion oszlop gáz

Részletesebben

Határfelületi jelenségek félvezetőkben

Határfelületi jelenségek félvezetőkben Határfelületi jelenségek félvezetőkben MTA Doktori értekezés Battistig Gábor Magyar Tudományos Akadémia Energiatudományi Kutatóközpont Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet Budapest 2016 Határfelületi

Részletesebben

Előzmények. a:sige:h vékonyréteg. 100 rétegből álló a:si/ge rétegrendszer (MultiLayer) H szerepe: dangling bond passzíválása

Előzmények. a:sige:h vékonyréteg. 100 rétegből álló a:si/ge rétegrendszer (MultiLayer) H szerepe: dangling bond passzíválása a:sige:h vékonyréteg Előzmények 100 rétegből álló a:si/ge rétegrendszer (MultiLayer) H szerepe: dangling bond passzíválása 5 nm vastag rétegekből álló Si/Ge multiréteg diffúziós keveredés során a határfelületek

Részletesebben

Amorf fényérzékeny rétegstruktúrák fotonikai alkalmazásokra. Csarnovics István

Amorf fényérzékeny rétegstruktúrák fotonikai alkalmazásokra. Csarnovics István Az Eötvös Loránd Fizikai Társulat Anyagtudományi és Diffrakciós Szakcsoportjának Őszi Iskolája 2012.10.03. Mátrafüred Amorf fényérzékeny rétegstruktúrák fotonikai alkalmazásokra Csarnovics István Debreceni

Részletesebben

A technológia hatása a bipoláris tranzisztor paramétereire

A technológia hatása a bipoláris tranzisztor paramétereire A technológia hatása a bipoláris tranzisztor paramétereire Készítette Katona József Mikro és nanotechnológia 2002. október 2. A bipoláris tranzisztor alkalmazási területei Nagyáramú, nagyteljesítményű

Részletesebben

NAPELEMEK KÖRNYEZETI SZEMPONTÚ VIZSGÁLATA AZ ÉLETCIKLUS ELEMZÉS SEGÍTSÉGÉVEL. Darvas Katalin

NAPELEMEK KÖRNYEZETI SZEMPONTÚ VIZSGÁLATA AZ ÉLETCIKLUS ELEMZÉS SEGÍTSÉGÉVEL. Darvas Katalin NAPELEMEK KÖRNYEZETI SZEMPONTÚ VIZSGÁLATA AZ ÉLETCIKLUS ELEMZÉS SEGÍTSÉGÉVEL Darvas Katalin AZ ÉLETCIKLUS ELEMZÉS Egy termék, folyamat vagy szolgáltatás környezetre gyakorolt hatásainak vizsgálatára használt

Részletesebben

Kémiai alapismeretek 14. hét

Kémiai alapismeretek 14. hét Kémiai alapismeretek 14. hét Horváth Attila Pécsi Tudományegyetem, Természettudományi Kar, Kémia Intézet, Szervetlen Kémiai Tanszék 2011. december 6. 1/9 2010/2011 I. félév, Horváth Attila c 1785 Cavendish:

Részletesebben

Bevezetés a lézeres anyagmegmunkálásba

Bevezetés a lézeres anyagmegmunkálásba Bevezetés a lézeres anyagmegmunkálásba FBN332E-1 Dr. Geretovszky Zsolt 2010. október 13. A lézeres l anyagmegmunkálás szempontjából l fontos anyagi tulajdonságok Optikai tulajdonságok Mechanikai tulajdonságok

Részletesebben

Szénszálak és szén nanocsövek

Szénszálak és szén nanocsövek Szénszálak és szén nanocsövek Hernádi Klára Szegedi Tudományegyetem Alkalmazott Kémiai Tanszék 1 Rendszám: 6 IV. főcsoport Nemfémek Négy vegyértékű Legjelentősebb allotróp módosulatok: SZÉN Kötéserősség:

Részletesebben

Katalízis. Tungler Antal Emeritus professzor 2017

Katalízis. Tungler Antal Emeritus professzor 2017 Katalízis Tungler Antal Emeritus professzor 2017 Fontosabb időpontok: sósav oxidáció, Deacon process 1860 kéndioxid oxidáció 1875 ammónia oxidáció 1902 ammónia szintézis 1905-1912 metanol szintézis 1923

Részletesebben

A periódusos rendszer, periodikus tulajdonságok

A periódusos rendszer, periodikus tulajdonságok A periódusos rendszer, periodikus tulajdonságok Szalai István ELTE Kémiai Intézet 1/45 Az előadás vázlata ˆ Ismétlés ˆ Történeti áttekintés ˆ Mengyelejev periódusos rendszere ˆ Atomsugár, ionsugár ˆ Ionizációs

Részletesebben

1. Energia-sávdiagram erősen adalékolt n, ill. p-típusú félvezető esetén

1. Energia-sávdiagram erősen adalékolt n, ill. p-típusú félvezető esetén 1. Energia-sávdiagram erősen adalékolt n, ill. p-típusú félvezető esetén 2. A napsugárzás spektruma a Föld felszínén (feketetest sugárzó: 5800K ~kb AM 0) 3. Hogyan érkezik a napsugárzás a napelemre? [nap->űr->légkör->modul

Részletesebben

Mikroelektronika. Számolja ki, hogy mekkora nyitófeszültség mellett lesz a nmos tranzisztor telítési árama 10mA. (V T =0.

Mikroelektronika. Számolja ki, hogy mekkora nyitófeszültség mellett lesz a nmos tranzisztor telítési árama 10mA. (V T =0. Mikroelektronika Minek a rövidítése az MPW? Ez mit jelent magyarul? Mi a gazdasági előnye? MPW = multi project wafer, magyarul a lényege: egy szeleten 10-15 terv kerül legyártásra. Gazdasági előnye: a

Részletesebben

A félvezetıgyártás ábrakialakítási módszerei Készítette: Fekete Zoltán, Dr. Fürjes Péter

A félvezetıgyártás ábrakialakítási módszerei Készítette: Fekete Zoltán, Dr. Fürjes Péter A félvezetıgyártás ábrakialakítási módszerei Készítette: Fekete Zoltán, Dr. Fürjes Péter A mérés célja: A gyakorlat célja az optikai litográfia elméleti alapjainak, valamint az ábrakészítés lépéseinek

Részletesebben

FÉLVEZETŐK. Boros Alex 10AT

FÉLVEZETŐK. Boros Alex 10AT FÉLVEZETŐK Boros Alex 10AT Definíció Félvezetőknek nevezzük azokat az anyagokat, amelyek fajlagos ellenállása a vezetők és a szigetelők közé esik. A félvezetők fajlagos elektromos vezetése közönséges hőmérsékleten

Részletesebben

A szilárd testek alakja és térfogata észrevehetően csak nagy erő hatására változik meg. A testekben a részecskék egymáshoz közel vannak, kristályos

A szilárd testek alakja és térfogata észrevehetően csak nagy erő hatására változik meg. A testekben a részecskék egymáshoz közel vannak, kristályos Az anyagok lehetséges állapotai, a fizikai körülményektől (nyomás, hőmérséklet) függően. Az anyagokat általában a normál körülmények között jellemző állapotuk alapján soroljuk be szilád, folyékony vagy

Részletesebben

5. Laboratóriumi gyakorlat. A p-n ÁTMENET HŐMÉRSÉKLETFÜGGÉSE

5. Laboratóriumi gyakorlat. A p-n ÁTMENET HŐMÉRSÉKLETFÜGGÉSE 5. Laboratóriumi gyakorlat A p-n ÁTMENET HŐMÉRSÉKLETFÜGGÉSE 1. A gyakorlat célja: A p-n átmenet hőmérsékletfüggésének tanulmányozása egy nyitóirányban polarizált dióda esetében. A hőmérsékletváltozási

Részletesebben

MEMS. Micro Electro Mechanical Systems Eljárások és eszközök. MEMS technológia kialakulása

MEMS. Micro Electro Mechanical Systems Eljárások és eszközök. MEMS technológia kialakulása MTA Mőszaki Fizikai és Anyagtudományi Kutatóintézet MEMS Laboratórium 1121 Budapest, Konkoly - Thege Miklós út 29-33 MEMS Micro Electro Mechanical Systems Eljárások és eszközök Pap Andrea Edit pap@mfa.kfki.hu

Részletesebben

NYÁK technológia 2 Többrétegű HDI

NYÁK technológia 2 Többrétegű HDI NYÁK technológia 2 Többrétegű HDI 1 Többrétegű NYHL pre-preg Hatrétegű pakett rézfólia ónozatlan Cu huzalozás (fekete oxid) Pre-preg: preimpregnated material, félig kikeményített, üvegszövettel erősített

Részletesebben

Ipari jelölő lézergépek alkalmazása a gyógyszer- és elektronikai iparban

Ipari jelölő lézergépek alkalmazása a gyógyszer- és elektronikai iparban Gyártás 08 konferenciára 2008. november 6-7. Ipari jelölő lézergépek alkalmazása a gyógyszer- és elektronikai iparban Szerző: Varga Bernadett, okl. gépészmérnök, III. PhD hallgató a BME VIK ET Tanszékén

Részletesebben

PHD tézisfüzet. Szabó Zoltán. Témavezető: Dr. Volk János Konzulens: Dr. Hárs György

PHD tézisfüzet. Szabó Zoltán. Témavezető: Dr. Volk János Konzulens: Dr. Hárs György PHD tézisfüzet Vékonyréteg és nanoszerkezetű cink-oxid tervezett szintézise és vizsgálata optoelektronikai eszközök számára Szabó Zoltán Témavezető: Dr. Volk János Konzulens: Dr. Hárs György MTA Energiatudományi

Részletesebben

Fókuszált ionsugaras megmunkálás

Fókuszált ionsugaras megmunkálás FEI Quanta 3D SEM/FIB Dankházi Zoltán 2016. március 1 FIB = Focused Ion Beam (Fókuszált ionnyaláb) Miből áll egy SEM/FIB berendezés? elektron oszlop ion oszlop gáz injektorok detektor CDEM (SE, SI) 2 Dual-Beam

Részletesebben

Hibrid Integrált k, HIC

Hibrid Integrált k, HIC Hordozók Hibrid Integrált Áramkörök, k, HIC Az alábbi bemutató egyes ábráit a Dr. Illyefalvi Vitéz Zsolt Dr. Ripka Gábor Dr. Harsányi Gábor: Elektronikai technológia, ill. Dr Ripka Gábor: Hordozók, alkatrészek

Részletesebben

Anyagos rész: Lásd: állapotábrás pdf. Ha többet akarsz tudni a metallográfiai vizsgálatok csodáiról, akkor: http://testorg.eu/editor_up/up/egyeb/2012_01/16/132671554730168934/metallografia.pdf

Részletesebben

Laptop: a fekete doboz

Laptop: a fekete doboz Laptop: a fekete doboz Dankházi Zoltán ELTE Anyagfizikai Tanszék Lássuk a fekete doboz -t NÉZZÜK MEG! És hány GB-os??? SZEDJÜK SZÉT!!!.2.2. AtomCsill 2 ... hát akkor... SZEDJÜK SZÉT!!!.2.2. AtomCsill 3

Részletesebben

Napelemes rendszerek anyagtechnológiája. Gröller György OE Kandó MTI

Napelemes rendszerek anyagtechnológiája. Gröller György OE Kandó MTI Napelemes rendszerek anyagtechnológiája Gröller György OE Kandó MTI 1 Tartalom Optikai alapfogalmak, tulajdonságok Fényvisszaverődés Fénytörés Fényátersztés elnyelés A napelemek fényérzékeny anyagai és

Részletesebben

A polimer elektronika

A polimer elektronika A polimer elektronika Tartalom Mi a polimer elektronika? Vezető szerves molekulák, polimerek; a vezetés mechanizmusa Anyagválaszték: vezetők, félvezetők, fénykibocsátók szigetelők, hordozók Technológiák

Részletesebben

Diszlokációk és elektromos paraméterek korrelációjának vizsgálata félvezető eszközökben*

Diszlokációk és elektromos paraméterek korrelációjának vizsgálata félvezető eszközökben* Diszlokációk és elektromos paraméterek korrelációjának vizsgálata félvezető eszközökben* VÉRTESY ANDRÁS- LÉNART TIROR Híradástechnikai ipari Kutató Intézet MTA Műszaki PÁL Fizikai EDIT Kutató Intézet A

Részletesebben

Poliszilicium emitteres tranzisztorok

Poliszilicium emitteres tranzisztorok Poliszilicium emitteres tranzisztorok NGUYEN SY NAM BME Elektronikus Eszközök Tanszék ÖSSZEFOGLALÁS A cikk új fajta bipoláris tranzisztort ismertet. Ebben a fajta tranzisztorban az adalékolt poliszilicium-réteg

Részletesebben

Szabó Zoltán VÉKONYRÉTEG ÉS NANOSZERKEZETŰ CINK-OXID TERVEZETT SZINTÉZISE ÉS VIZSGÁLATA OPTOELEKTRONIKAI ESZKÖZÖK SZÁMÁRA PHD ÉRTEKEZÉS

Szabó Zoltán VÉKONYRÉTEG ÉS NANOSZERKEZETŰ CINK-OXID TERVEZETT SZINTÉZISE ÉS VIZSGÁLATA OPTOELEKTRONIKAI ESZKÖZÖK SZÁMÁRA PHD ÉRTEKEZÉS VÉKONYRÉTEG ÉS NANOSZERKEZETŰ CINK-OXID TERVEZETT SZINTÉZISE ÉS VIZSGÁLATA OPTOELEKTRONIKAI ESZKÖZÖK SZÁMÁRA PHD ÉRTEKEZÉS Szabó Zoltán TÉMAVEZETŐ Dr. Volk János KONZULENS Dr. Hárs György MTA EK MŰSZAKI

Részletesebben

Fázisátalakulás Fázisátalakulások diffúziós (egyedi atomi mozgás) martenzites (kollektív atomi mozgás, diffúzió nélkül)

Fázisátalakulás Fázisátalakulások diffúziós (egyedi atomi mozgás) martenzites (kollektív atomi mozgás, diffúzió nélkül) ázisátalakulások, P, C változása új (egyensúlyi) állapot Új fázis(ok): stabil, metastabil ázisátalakulás: folyamat, amelynek során a régi fázis(ok)ból új, más szerkezetű (rács, szövet) vagy halmazállapotú

Részletesebben

1. SI mértékegységrendszer

1. SI mértékegységrendszer I. ALAPFOGALMAK 1. SI mértékegységrendszer Alapegységek 1 Hosszúság (l): méter (m) 2 Tömeg (m): kilogramm (kg) 3 Idő (t): másodperc (s) 4 Áramerősség (I): amper (A) 5 Hőmérséklet (T): kelvin (K) 6 Anyagmennyiség

Részletesebben