Számítógépes tervezés. Digitális kamera



Hasonló dokumentumok
Nyomtatott huzalozású lemezek technológiája

. Nyomtatott Áramköri Lapok áttekintés

Kétoldalas, furatfémezett nyomtatott huzalozású lemez készítése

Kétoldalas, furatfémezett nyomtatott huzalozású lemez készítése

Műanyagok galvanizálása

Kétoldalas, furatfémezett nyomtatott huzalozású lemez készítése

Elektronikai technológia labor. Segédlet. Fényképezte Horváth Máté. Írta Kovács János. Az OE-KVK-MTI hallgatói

1. Ismertesse és ábrán is szemléltesse a BGA tokozás (műanyag és kerámia) szerkezeti felépítését és

1. Definiálja a hőtágulási együttható és az üvegesedési hőmérséklet fogalmát áramköri hordozók esetére.

Villamos tulajdonságok

Elektronikai gyártás és minőségbiztosítás Gyártás részének kidolgozása. Készítette: Turóczi Viktor. Közreműködött: Kiss Gergő, Szaffner Dániel

Hibrid Integrált k, HIC

ÁSVÁNYI DÖRZSÖLT VAKOLAT 2.0 és 2.5

Kondenzátorok. Fizikai alapok

TECHNOLÓGIAI FOLYAMATOK ÉS

A polimer elektronika

Szereléstechnológia. A felületi szereléstechnológia kialakulása MÉRETSZABVÁNY. A felületi szerelés típusai. A felületi szerléstechnológia(smt):

Felületfizikai és felületkémiai labor M épület földszint

Egyoldalas speciális ipari ragasztószalagok Választékkatalógus. A legjobb válaszok. a terméktervezés, a gyártás és a minôség kihívásaira

MÉHSEJT PP Ilyen könnyő a szilárdság

Diszperz rendszerek. Kolloid rendszerek. Kolloid rendszerek

KULCS_TECHNOLÓGIA MUNKATERÜLET: GÉPÉSZET ÉS FÉMMEGMUNKÁLÁS OKTATÁSI PROFIL: LAKATOS

KÉRDÉSEK_TECHNOLÓGIA MUNKATERÜLET: GÉPÉSZET ÉS FÉMMEGMUNKÁLÁS OKTATÁSI PROFIL: LAKATOS

MAGYAR RÉZPIACI KÖZPONT Budapest, Pf. 62 Telefon , Fax

Szilárd gyógyszerformák hatóanyagának kioldódási vizsgálata

41. A minıségügyi rendszerek kialakulása, ISO 9000 rendszer jellemzése

NYÁK tervezési szempontok

Mechanikai megmunkálás Ipari termék- és formatervezıknek

Jármőipari EMC mérések

NYÁK tervezési szempontok

Védőbevonatok Szigetelőbevonat-forrasztási segédanyag, galvanikus védelem

Adatgyőjtés, mérési alapok, a környezetgazdálkodás fontosabb mőszerei

HASZNÁLATI ÉS KEZELÉSI ÚTMUTATÓ TC PANELEK FELHASZNÁLÓINAK

A 2009/2010. tanévi Országos Középiskolai Tanulmányi Verseny első (iskolai) forduló KÉMIA I-II. KATEGÓRIA FELADATLAP

NYÁK technológia 2 Többrétegű HDI

Tárgyszavak: alakmemória-polimerek; elektromosan vezető adalékok; nanokompozitok; elektronika; dópolás.

Kerámiák és kompozitok (gyakorlati elokész

Aktuális akciós árak

A NYOMTATOTT HUZALOZÁSÚ LEMEZEK TECHNOLÓGIÁJA ÉS TERVEZÉSE

Az értékelemzés szemlélete. Értékelemzés. Az értékelemzés és racionalizálás összehasonlítása. Az értékelemzés fogalomrendszere

Galvanizálás a híradástechnikában

TERMÉSZETTUDOMÁNY JAVÍTÁSI-ÉRTÉKELÉSI ÚTMUTATÓ

Polimer kompozitok alapanyagai, tulajdonságai, kompozitmechanikai alapok

Eredmények és feladatok a hibrid vastagréteg technikában ETO

Integrált áramkörök/1. Informatika-elekronika előadás 10/20/2007

Szécsény. Gimnázium. Primer energia ellátó rendszer gépészeti és villamos terve. Budapest, november. Gimnázium Budapest, 1012 Várfok u. 7.

A furatfémezett nyomtatott huzalozású lemezek előállítása

Fafizika 7. elıad. Akusztikai és s optikai tulajdonságok NYME, FMK,

Energetikai Gépek és Rendszerek Tanszék. Emisszió mérés berendezései

KULCS_TECHNOLÓGIA MUNKATERÜLET: GÉPÉSZET ÉS FÉMMEGMUNKÁLÁS OKTATÁSI PROFIL: KAROSSZÉRIA_LAKATOS

1. Atomspektroszkópia

Mikrohullámú abszorbensek vizsgálata

Képalkotás a pásztázó elektronmikroszkóppal

1 ábra a) Kompaundálás kétcsigás extruderben, előtermék: granulátum, b) extrudált lemez vákuumformázásának technológiai lépései, c) fröccsöntés

Funkcionálisan gradiens anyagszerkezetű kompozit görgő végeselemes vizsgálata

XC-K. - 05/12 rev. 0 HASZNÁLATI ÚTMUTATÓ A TELEPÍTÕ ÉS KARBANTARTÓ RÉSZÉRE

Fizikai kémia és radiokémia labor II, Laboratóriumi gyakorlat: Spektroszkópia mérés

Épületgépészeti csőanyagok kiválasztási szempontjai és szereléstechnikája. Épületgépészeti kivitelezési ismeretek szeptember 6.

Kétkomponensű epoxigyanta alapozó, kiegyenlítő habarcs és esztrich Construction

Kémia OKTV 2005/2006. II. forduló. Az I. kategória feladatlapja

Zwaluw 2k Dőbelragasztó (poliészter) 300ml

MÓDOSÍTOTT RÉSZLETEZÕ OKIRAT (1)

FOTÓKATALIZÁTOROS LEVEGİTISZTÍTÓ MODELL AP-3

MŰANYAGOK TULAJDONSÁGAI

GÉPJAVÍTÁS IV. SEGÉDLET

MŐSZAKI LEÍRÁS BK01427

MUNKAANYAG. Forrai Jánosné. A beton minősítések, minőség ellenőrzés. A követelménymodul megnevezése: Monolit beton készítése I.

Ragasztás, ragasztóanyagok. Kötés kialakulása kémiai úton. Kötés kialakulása kémiai úton. Kötés kialakulása kémiai úton

Fizika 2. Feladatsor

Mit csinálnak a PCB gyártók mielőtt gyártani kezdik az ÖN NYÁKját? Miért nem tudjuk használni az Ön gerber- és fúrófájljait ahogyan feltöltötte?

(11) Lajstromszám: E (13) T2 EURÓPAI SZABADALOM SZÖVEGÉNEK FORDÍTÁSA

A 2007/2008. tanévi Országos Középiskolai Tanulmányi Verseny második fordulójának feladatlapja. KÉMIÁBÓL I. kategóriában ÚTMUTATÓ

σhúzó,n/mm 2 εny A FA HAJLÍTÁSA

( -Mitteilungen, 2008/2)

A hegesztési eljárások áttekintése. A hegesztési eljárások osztályozása

(11) Lajstromszám: E (13) T2 EURÓPAI SZABADALOM SZÖVEGÉNEK FORDÍTÁSA

5. A talaj szerves anyagai. Dr. Varga Csaba

Integrált áramkörök termikus szimulációja

PHENOLINE 311 Termékismertető

Kerámia, üveg és fém-kerámia implantátumok. BME Anyagtudomány és Technológia Tsz.

Háromkomponensű, epoxigyantával javított cementbázisú önterülő padló 1,5-3 mm vastagságban

Kisfeszültségő épületcsatlakozó berendezések az ELMŐ Nyrt. és az ÉMÁSZ Nyrt. részére

Röntgensugárzás 9/21/2014. Röntgen sugárzás keltése: Röntgen katódsugárcső. Röntgensugárzás keletkezése Tulajdonságok Anyaggal való kölcsönhatás

NAGYHATÉKONYSÁGÚ FOLYADÉKKROMA- TOGRÁFIA = NAGYNYOMÁSÚ = HPLC

VALIT. kétkomponenső vékonyrétegő rusztikus vakolat. MŐSZAKI ADATLAP hun DEKORÁCIÓS VAKOLATOK. 1. Leírás, alkalmazás

MŰANYAGOK FELDOLGOZÁSA

Környezetvédelmi mérések fotoakusztikus FTIR műszerrel

Az anyagok mágneses tulajdonságai

Félvezető és mágneses polimerek és kompozitok

Légszennyezés. Légkör kialakulása. Őslégkör. Csekély gravitáció. Gázok elszöktek Föld légkör nélkül maradt

METEOROLÓGIAI MÉRÉSEK, MŐSZEREK

mechanikai terheléseknek ellenáll. Követi az alapfelületet, a pórusokat lezárja. Mûszaki adatok: Sûrûség: 1,1 g/cm 3 Száraz rétegvastagság

Készítette: Bujnóczki Tibor Lezárva:

SPEKTROFOTOMETRIAI MÉRÉSEK

O k t a t á si Hivatal

Szerszám ajánló CNC forgácsoláshoz

A MEZİGAZDAS GAZDASÁGI GI EREDETŐ KÖRNYEZETTERHELÉS CSÖKKENT

NANOTECHNOLÓGIA - KÖZÉPISKOLÁSOKNAK NAOTECHNOLOGY FOR STUDENTS

A tételekhez segédeszköz nem használható.

Átírás:

Számítógépes tervezés Digitális kamera 1

Nyomtatott huzalozású lemezek technológi giája http://uni-obuda.hu/users/tomposp/szgt

NYÁK, PCB (Printed Circuit Board), NYHL, PWB (~ Wiring ~) Vezetıhálózat zat + mechanikai tartás s + szerelési si alap Elıny nyök: Nagyobb terhelhetıség, jobb disszipáci ció (felület/keresztmetszet let/keresztmetszet nagy) Szerelés, mérés, m hibakeresés automatizálhat lható Megbízhat zhatóság g jobb

NYÁK feladatai Állandó, stabil energia ellátás Hı elvezetés Mechanikai stabilitás Különleges elektromos és mechanikus kívánalmak Környezetbarát legyen Megbízható legyen

NYHL típusokt Hordozó: merev hajlékony Vezetısávok száma: egyoldalas, kétoldalas, furatfémezett, többrétegő g: vezet Rajzolatfinomság: vezetı szigetelı vastagság normál: 0,4 0,6 mm >16mil finom: 0,3 0,4 mm ~12 16 mil igen finom: 0,1 0,2 mm ~ 4 8 mil (1 raszter = 2,54mm, 1 mil = 0,001 inch = 0,01raszter)

Fı lépések Anyagválaszt lasztás (hordozó,, fólia) f Mechanikai megmunkálás (fúrás,darabol s,darabolás) s) Rajzolat kialakítás Maszk készk szítés: s: fotolitográfia, fia, szitanyomtatás Maratás Fémbevonatok: Cél Megoldás Forrasztásg sgátló bevonat Ellenırz rzés Furatfémez mezés Maszkolás Felület let kikész szítés Galvanikus Árammentes (redukciós) Immerziós

A folírozott lemez anyagai Szigetelı hordozó Követelmények: Villamos: Térfogati ellenáll llás Felületi leti ellenáll llás Dielektromos jellemzık k (ε,(, tgδ) Mindezek hıh és s frekvenciafüggése Hıállóság Forrasztás, s, joule-hı Hıtágulási együtthat ttható (x,y,z) Hıvezetı képesség Vízfelvétel a technológia és s a használat során Mechanikai: Szilárds rdság Megmunkálhat lhatóság (darabolható,, fúrhatf rható) Nem vetemedik A hordozó nagy hıtágulása miatt a furatok fémezése sérülhet: Függ a rétegek számától, a rézréteg vastagságától és a hordozó vastagságától

A hordozó anyagai Mőanyag Társító nélkül, l, flexibilis NYHL Társított, kompozit: merev NYHL Kerámia különleges célokra, c

Erısítı: Felelıs s a szilárds rdságért, rt, rugalmasságért rt Javítja a hıállh llóságot, villamos jellemzıket. Papír, Üvegszál, Üvegszövet, vet, Kerámiasz miaszál -szövet Alapváz z (mátrix): mőgyantam Felelıs s a felületi, leti, villamos, hıtani tulajdonságok gokért. Fenolgyanta (bakelit) hıállóság, nedvességfelv gfelvétel Epoxigyanták: tapadás, szigetelés Fejlesztés: s: poliimid, (polikarbonát), teflon, folyadékkrist kkristályos polimer

Hordozó típusok XXXP 790: pap papírvázas fenolgyanta ~10 MHz-ig, kis vízfelvv zfelvétel, sárgas FR-2: 2: papírv rvázas fenolgyanta Lágálló,, jój mérettartás, sötétss tsárga FR-3: 3: papírv rvázas epoxigyanta Jó el. tulajdonságok, ~furatfémezhet mezhetı,, krémszin mszinő FR-4: 4: üvegszövetvázas epoxi Jól l megmunkálhat lható,, furatfémezhet mezhetı,, jój el. tulajdonságok, kis vízfelvétel, áttetszı zöld FR-5: 5: mint FR-4, javított hıállh llóság, nagyobb T g CEM 1: papír, üvegszövet, vet, epoxi FR: flame retardant, környezeti k követelmk vetelmény: halogénmentes

Vizsgálati módszerekm Villamos paraméterek: Térfogati ellenáll llás; R Felületi leti ellenáll llás; R Permittivitás; s;ε rel Veszteségi tényezı;tgδ Átütési szilárds rdság Elektródaelrendezés az R és a felületi R mérésére

Tapadásvizsg svizsgálat Vizsgálati módszerekm Késsel bevágás, lefejtés Forrszemre forrasztott rézhuzal r szakítógép Hıállóság 120 o C - 30perc felhólyagosod lyagosodás s nélkn lkül Lángállóság: bunsenlángba ngba 10sec Forraszáll llóság: 250 o C 5sec Vízfelvétel: 24 óra tömegnt megnövekedés

Tulajdonság R térf, Ωcm (40 o C) R, Ω (40 o C) FR-3 FR-4 FR-5 C) 4 10 12 8.10 14 8.10 14 C) 4 10 12 3 10 12 3 10 15 ε rel, (1 MHz) 4,9 4,7 4,6 tgδ (1 MHz) (GHz) 0,04 0,02 0,015 Forrasztófürd rdı tőrés (sec) 25 >120 >120 Vízadszorpció (mg) na 15 na Tg, üvegesedési si hımérséklet Hıtágulás s (z irány %) 25-275 275 C (Tg fölött) f 150 >165 5.5

Rézfólia Vastagság: g: 17,5µm, 35µm,, (70µm, 105µm,) féladditív: 5µm 5 m védıréteggelv Speciális, (pl. autóipari 400 µm) Gyárt rtás: galvanoplasztika elektrolizálás s forgó acélhengerre, fél f l fordulat után n lefejtés Ragasztás: s: ragasztófólia vagy oldószeres, melegre térhálósodó mőgyanta

A vezetıréteg terhelhetısége: a jelölt hımérséklet az emelkedést jelenti a külsı rétegek terhelhetısége kb. kétszerese a belsıknek

A szigetelıcs csík k széless lessége az alkalmazott feszülts ltség g függvf ggvényében

Lemez elıkész szítési, si, tisztítási si mőveletek Darabolás Fúrás Zsírtalanítás Oxidmentesítés

Mechanikai mőveletekm Darabolás: Technológiai méretre m (~ 50 80 cm-es táblt blák) Technológiai sávs Utólag: kivágás, kontúrmar rmarás Fúrás: egyoldalas: a mőveletsor m végén - nem kritikus kétoldalas, többrt bbrétegő: : elején - nagyon fontos. Furat belsı fala fémezhetf mezhetı legyen. Méretarány (aspect ratio) furathossz/átm tmérı (7-10); pl: legkisebb furat 0,6mm fúrószár r terhelhetısége, furat fémezhetf mezhetısége Pakett, koordináta ta-fúró össz. Vastagság: g: 5mm

Fúrók Anyag: wolfram-karbid Menetemelkedés: 30 40 o Kúpszög: ~140 o Fordulatszám: 10-90000/min minél l kisebb furat, annál nagyobb fordulatszám Min. d =0,15 0,2 mm Törés észlelés

Mechanikai felülettiszt lettisztítás - dörzshenger (nylon sörts rtés s kefe, tömör t r kefe) - habkıpor (nedves): kézzel, k géppel, g habkısug sugár r gép g p ( 60µm, 15%)

Kémiai felületkezel letkezelések Zsírtalan rtalanítás: új j réteg r egyenletes tapadása Vizes bázisb zisú zsírtalan rtalanítók: Lúgos: NaOH, Na 2 CO 3 Felületaktív anyag: szappanszerő vegyületek Bemerítéssel vagy permetezéssel

Kémiai felületkezel letkezelések Mikromaratás: felület let finom érdesítése se ez jobb tapadást eredményez anyag: ammónium nium-perszulfát, nátriumn trium- perszulfát t (10-15%) 15%)

Ultrahangos tisztítás A hang longitudinális lis hullám - nyomásv sváltozás Kavitáci ciós üreg keletkezik - összeomlik, p = 10 8 10 9 Pa, (folyadék szilárd határfel rfelületen) leten) Fellazítja, letépi a szennyezıdést st a felületr letrıl Hatása függ: f az oldószer Hımérsékletétıl, l, Felületi leti feszülts ltségétıl Gıznyomásától, Viszkozitásától

Ultrahangos tisztítás

Oxidmentesítés Felületi leti oxidréteg, ill. más m s korrózi ziós bevonat eltávol volítása fémtiszta f állapotig -dekapírozás- Általában savas pácoldatokp Rézen: Cu 2 O, Cu(OH) 2 CuCO 3, 10 20% -os kénsav, k sósav, s sav, szobahımérs rsékleten, 0,5-1 perc

Ábrakialakítási módszerekm Foto készk szítés Fotolitográfia Szitanyomtatás

Fotomaszk készk szítés Foto technológiai szerepe: minta átvitele Mesterábra készk szítése: se: Kézi: tusrajz, sablonkészlet (chartpack) kontakt foto Gépi: Ák. tervezı program NYHL tervezı program minden réteg r huzalozási rajza furatok, forrasztásg sgátló bevonat rajza NYHL ellenırz rzı program

Kisebb nagyobb módosm dosításokkal sokkal átvehetık k más m területen bevált eljárások Pl: mai fotolitográfia fia elıdei: Rézkarc XIV XV szd Nyomdatechnika XVI XIX. szd Szitanyomtatás s XIX. szd Fototechnika XIX XX. szd Élelmiszeripar, csokibevonat folyadékf kfüggönyös s lakkfelvitel 29

x;y koordináták Gerber fájl: fény nyit/zár apertura mérete Laser levilágító: Ábra pontokból mint mátrixnyomtató Felbontás jó, de ferde vonalak széle lépcsıs Laserplotter: Folytonos minden irányban Felbontás jó Lassú

Fototechnikai alapok Fekete-feh fehér r film Fényérzékeny réteg: r Zselatinban eloszlatott finomszemcsés ezüst st-halogenid szemcsék k (emulzió) Emulzió + fényérzékeny anyag Hordozó Fényvédı réteg Emulzió + fényérzékeny anyag Hordozó Fényvédı réteg Film szerkezete

Exponálás - elıhívás Exponálás: AgBr + hνh Ag + Br latens képk Elıhívás: a redukció teljessé tétele tele a fényt f kapott szemcsékben

AgBr kristály elektron- mikroszkópos képek Exponált, részben elıhívott AgBr szemcsék

Fixálás: Az exponálatlan AgBr kioldása Fixírsó: Na 2 S 2 O 3 AgBr-ból vízoldható komplex só

Fotók k jellemzı tulajdonságai Negatív v mőködésőm Fényérzékenység: ISO/DIN 100/21, 200/24, 400/27 Denzitás: (feketeség g mértm rtéke) D = I 0 /I Kontraszt, alapfátyol Felbontóképess pesség: A fényf nyérzékenységgel fordítottan változikv Jó technológiai foto: 8 10000 dpi

Maszkolási si módszerekm Maszkolás s célja: c A felület let meghatározott területeit v.milyen fizikai / kémiai k hatással szemben megvédeni Különálló maszk, pl. szita Maszk a felületen leten Foto minısége döntd ntı: Pontosság Rétegfotók k illesztettsége

Fotoreziszt technológia = fotolitográfia fia fényérzékeny és s ellenáll lló tulajdonságú polimer rétegr használatos: NYHL, hibrid IC, félvezetf lvezetı felbontás, ~vonalfinomság g (40 nm) típusok: pozitív negatív folyékony szilárd

Fotokémiai alapok A reakcióhoz szüks kséges aktiválási si- kötési energiát t egy elnyelt foton szolgáltatja. ltatja. W = hc/λ a reakcióhoz egy adott értéknél l kisebb λ kell.

Fotorezisztek fajtái Pozitív: fény hatására depolimerizáci ció,, csökken a molekulatömeg. meg. Ezek oldhatósága megnı. Negatív: fény hatására polimerizálódik a monomer gyanta, és/vagy a lineáris polimer láncok l keresztkötésekkel egymásba kapaszkodva oldhatatlanná teszik a rezisztet az elıhívó anyag számára. Folyékony Szilárd

Pozitív v rezisztek Negatív v rezisztek Érzékenység: UV, láthatóra alig Megvilágítás: UV Elıhívó: : híg h g NaOH Leoldás s szerves oldószerben Pontos rajzolat, könnyk nnyő technológia Fényérzékenység: ~540 nm alatt (sárga lámpa a munkahelyen!) Megvilágítás: UV Elıhívó: gyengébb lúg, pl. 1 2% Na 2 CO 3 Leoldás: erısebb lúg, pl. 5% NaOH

+, - Szilárd rezisztek negatív v elterjedtebb Vastagabb Nem folyik be a furatokba Kevesebb technológiai lépésl Egyenletes rétegvastagsr tegvastagság

Technológiai lépések l (folyékony reziszt) 1. Tiszta, zsírtalan, száraz felület let 2. Rétegfelvitel Centrifugálás s (d ~ v k ~ r ) Kenıhenger Szitanyomás Függönyöntés 3. Szárítás - 60 80 o C oldószer elpárolog (oldószer csökkenti a fényérzékenységet) filmképz pzıdés

Technológiai lépések l 2 4. Megvilágítás Emulziós s oldal a rezisztre szorítva UV - nagynyomású Hg-gızl zlámpa (365nm) Távolság, idı kísérleti beáll llítása (dózisb zisból l számíthat tható) 5. Elıhívás Elıhívóban oldódási sebesség-különbs nbség Ált. permetezéssel 2. 5. együtt változik, v nem lehet csak egyiket módosítani 6. Beéget getés 7. Maratás

Technológia - szilárd reziszt Du Pont Riston fólia f Felhengerlés, laminálás 100 o C, (lemez elımeleg melegítve), felület let mikroérdes rdesítve Megvilágítás: egyszerre 2 oldal, pontos pozícion cionálás! Tapadást befolyásol soló tényezık: - nyomás - sebesség - hengerek hımérsh rséklete - fólia vastagsága ga - elımeleg melegítés

Technológia - szilárd reziszt Elıhívás: mylar fólia f le, hívó gyengén n lúgos l (1 2%-os Na 2 CO 3 ), permetezı,, erıs s mechanikai hatás s is kell

Levilágítási technológi giák Érintkezéses levilágítás s (Contact Imaging) Lézeres vetítı módszer (Laser Projection Imaging, LPI) Lézeres közvetlen k levilágítás s (Laser Direct Imaging, LDI) Ismétl tlı levilágítás s (Step and Repeat Imaging)

Érintkezéses levilágítás (Contact Imaging) Bejáratott, kipróbált eljárások, olcsó,, könnyen k beszerezhetı eszközök, k, nagy áteresztıképesség, Relatív v alacsony kihozatal, pontatlan helyezés, pozícion cionálás, kis felbontás, maszk kopás, szemcsés s szennyezés s veszélye

Lézeres vetítı módszer Nagy felbontás s nagy felület lető hordozón n is, nagy pontosságú helyezés, pozícion cionálás, nagy áteresztıképesség g hagyományos rezisztekkel, nincs maszk-panel kontaktus magas kihozatal,

Elıhívott rezisztminták lézeres levilágítás után

Lézeres közvetlen k levilágítás nincs szüks kség g maszkra, kis sorozatú gyárt rtásra ideális, nagy pontosságú helyezés, pozícion cionálás, függetlenül l beáll llítható X és s Y irány nyú korrekciós s skála panel deformáci ciókhoz alkalmazkodik, kiváló kihozatal, különleges, nagyérz rzékenységő és s gyorsan exponálhat lható rezisztet igényel, az áteresztıképesség g függ f a felbontást stól.

Maszkolási si módszerekm Szitanyomtatás

Alkalmazás: közepes sorozat közepes rajzolatfinomság maratásálló maszk forrasztópaszta forrasztásgátló maszk felvitelére feliratok készítésére

Szita jellemzı tulajdonságai Szál: Szakítószilárdság Rugalmasság Kopásállóság Vegyszerállóság Szövet: Szitafinomság (mesh:csomó/inch) Szabad felület % ~ 1 mm

Szitanyomó maszk Keret Emulziós maszk Tömítı festék

Maszk fajtái, készk szítésese Direkt (emulziós) Folyékony fényf nyérzékeny emulzió: mártás, szárítás, s, exponálás Jó tapadás, ~ 20000 Speciális megvilágító (kerettel együtt)

Indirekt (fotostencil) Negatív v fényf nyérzékeny fólia (PVA, PVOH) Exponálás s hordozó oldalról! l! Hívás: meleg vízv Behengerlés s a szitaszövetbe

Mikroszkópi képk indirekt direkt

Fémmaszk Fémfólián n a nyílások kivágása Laserrel (elektrokémiai) maratással Elıny nyök: nagyobb pontosság, nagyobb felbontás s (127 65 µm- es lábkiosztl bkiosztás) s) nagyobb élettartam

Elektrokémiailag maratott maszk profilja Lézerrel kivágott maszk Fotolitográfia maszk maratás vagy galvanizálás Nincs foto, vegyszer, nagyobb megbízhatóság

Nyomtatás Asztal: rögzítés, pozícion cionálás, gyors lemezcsere Kés: (rakel, squeegee) éles, vegyszeráll lló, kopásáll lló szilikongumi dılésszög: 45 60 o, sebesség közepes

Festék Fı tulajdonságok viszkozitás nyomtatás s könnyk nnyő legyen az átpréselt pöttyp ttyök összefolyjanak a nyomtatott minták k ne folyjanak össze tixotrop felületi leti feszülts ltség Típusok maratásáll lló, forrasztásg sgátó, forraszpaszta, vastagréteg teg áramköri ri elemek, felirat

Maratás Cél: a réz r z eltávol volítása a maszk által nem védett területr letrıl. l. Maratószer: Oxidáló: : Cu Cu 2+ + 2e - Savas/lúgos ph: a Cu 2+ oldatban tartására ra

Típusok: Savas: szulfátos kloridos Lúgos: kénsav-hidrogénperoxid ammónium nium-perszulfát vas(iii)klorid réz(ii)klorid réztetrammin-komplex nátrium-klorit nátrium/kálium-perszulfát

Maratószer jellemzık Marási sebesség g (µm/perc)( hımérséklet, koncentráci ció függés Marási kapacitás s (m 2 NYHL/kg maratószer) Alámar marás s (v /v /v ) TIN ETCH RESIST IMAGED LINE WIDTH COPPER PLATE LATERAL ETCH ETCH DEPTH COPPER CLAD LAMINATE FOOT OF LINE Outer Layer Line after Etching Szelektivitás s (Sn maszk esetén) Regenerálhat lhatóság, Egészs szségi, környezeti k hatás

Maratási módszerekm Bemerítés Permetezés Folyadéksugaras mindig friss maratószer jut a felületre letre erıs áramlás s lemossa az oldott rezet folyamatos regenerálás s (Cu kinyerés, redoxpotenciál, ph visszaáll llítása) Öblítés minimális kihordás s (levegılef lefúvó,, gumihenger) elsı öblítıvíz z nem önthetı ki! kaszkád öblítés